冷卻循環水機

                                                              冷卻循環水機

      冷卻循環水機是一種能提供恒溫、恒流、恒壓的冷卻水設備。主要由制冷系統，電氣系統，水路系統構成。主要應用于國內外實驗室精密儀器的降溫和實驗工藝冷源使用。

冷卻循環水機流程圖：

二：冷卻循環水機應用領域：

化學、生物領域：氫氧測定儀、旋轉蒸發儀、CCD、生物發酵罐、化學反應器（合成器）等。

材料領域：石墨爐原子原子吸收、等離子光譜儀（ICP）真空鍍膜電鏡、X射線衍射儀、X熒光衍射儀、真空爐、鍍膜機、ICP刻蝕、各種半導體設備、疲勞試驗機、離子減薄儀、離子束外延設備、氣相外延設備、化學沉積系統、原子沉積系統等等。

物理領域：激光器（各種型號）、磁場、超導、低溫探頭、各種分子泵以及包括材料領域使用的各種需水冷設備。

醫療器械：核磁共振、超導磁共振、直線加速器、CT、X光機

廣泛應用于大學物理，材料，化學，生物，醫學等學院和科研機構，研發中心及需要冷源場所。

三：儀器特點

1.制冷技術，質量穩定，可靠性高;寬廣的溫度范圍5℃～35℃之間任意調節。

2.采用微電腦版控制器，操作簡單，多種精度可以選擇（±0.1℃、±0.3℃、±0.5℃、±1℃等），

3.具備手動添加水，適合純凈水/蒸餾水，杜絕二次污。

4.溫度可調，實現全自動智能化控制 系統水溫，超高溫報警，水流，故障信號報警輸出，可定制遠程控制

5、安全保護及指示功能，保證機組安全可靠運行。

6.可接受客戶非標制作，儀器結構，尺寸，流量，溫度精度，壓力等噪音低、控溫精度高

四：使用注意事項：

1. 本機切勿使用腐蝕性液體：

2. 連接的電源制式與產品銘牌相符

3. 應確保水位高于盤管

4. 水位高于盤管頂部，以免造成換熱不充分，

5. 為保持設備的工作正常，在設備的進，出風口必須保證有大于50MM以上的通風空間，不得有雜物，垃圾等不允許堵住進，出風口